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美国研发出金刚石/氮化硼晶体层可用于高功率器件

近日,北卡罗来纳州立大学的材料研究人员已经开发出一种对新技术,将金刚石沉积在立方体氮化硼表面(c-BN),结合成一个新的单晶体结构。“这种材料可以

日期 2016-05-31   
新技术突破改善碳化硅功率器件

新技术突破改善碳化硅功率器件

日本东京大学近日研发新型碳化硅绝缘薄膜生长技术,极大地改善了碳化硅功率器件的性能。高性能功率器件常用在高压、大电...

日期 2014-08-11   

专利:一种金刚石器件的制备方法

申请号:201410107135.8申请人:中国电子科技集团公司第十三研究所摘要:本发明公开了一种金刚石器件的制备方法,涉及半导体器件技术领域。包括以下步骤(1)在有导...

日期 2014-08-05   
“单晶金刚石及其电子器件国际研讨会暨2014第四届中国真空高层论坛”在西安隆重召开

“单晶金刚石及其电子器件国际研讨会暨2014第四届中国真空高层论坛”在西安隆重召开

6月12-15日,由中国真空学会、西安交通大学、陕西省科学技术协会、中国真空网和陕西省真空学会联合主办的“单晶金...

日期 2014-06-27   
单晶金刚石及其电子器件国际研讨会隆重召开

单晶金刚石及其电子器件国际研讨会隆重召开

6月12-15日,由西安交通大学、中国真空学会、陕西省科学技术协会和陕西省真空学会联合主办,西安交通大学宽禁带半...

日期 2014-06-17   
单晶金刚石及其电子器件泛太平洋国际研发与产业联盟正式成立

单晶金刚石及其电子器件泛太平洋国际研发与产业联盟正式成立

6月14日,按照“自愿、平等、合作”的原则,西安交通大学、早稻田大学、日本国立物质材料研...

日期 2014-06-17   

一种太赫兹波段真空器件用的金刚石输能窗片及其制造方法

申请号:201410011479申请人:中国电子科技集团公司第十二研究所摘要:一种太赫兹真空器件用的金刚石输能窗片及其制造方法,属于真空电子器件领域,该金刚石输能窗片结...

日期 2014-05-13   

电子器件基片加工专用多线切割装备系列化研制与产业化

完成单位:湖南宇晶机器股份有限公司,湖南大学,湘潭大学,温州大学完成人员:戴瑜兴、张义兵、熊万里、蒋近、周志雄、全惠敏、杨宇红、郑崇伟、蔡国安、刘春陵、王环、杨辉煌&

日期 2014-04-25   

中国实现碳化硅大功率器件批量生产

中国首次实现碳化硅大功率器件的批量生产,在以美、欧、日为主导的半导体领域形成突破。业内专家指出,这一突破有望缓解中国的能源危机。泰科天润半导体科技(北京)有限公司G2S...

日期 2014-01-22   
苏州纳米所石墨烯高灵敏一氧化氮传感器件研究取得新成果

苏州纳米所石墨烯高灵敏一氧化氮传感器件研究取得新成果

石墨烯(Graphene)是由单层碳原子构成蜜蜂窝形式的二维纳米结构,具有大的比表面积和良好的载流子传导性能,预...

日期 2011-12-24   

射频功率碳化硅场效应晶体管的互连方法和器件

名称射频功率碳化硅场效应晶体管的互连方法和器件公开号1359535公开日2002.07.17主分类号H01L21/6

日期 2010-12-24   

碳化硅水平沟道缓冲栅极半导体器件

名称碳化硅水平沟道缓冲栅极半导体器件公开号1308774公开日2001.08.15主分类号H01L29/24&nbs

日期 2010-12-23   

利用注入和横向扩散制造碳化硅功率器件的自对准方法

名称利用注入和横向扩散制造碳化硅功率器件的自对准方法公开号1304551公开日2001.07.18主分类号H01L2

日期 2010-12-23   

通过受控退火制造碳化硅功率器件的方法

名称通过受控退火制造碳化硅功率器件的方法公开号1304546公开日2001.07.18主分类号H01L21/04&n

日期 2010-12-23   

碳化硅半导体开关器件

名称碳化硅半导体开关器件公开号1286805公开日2001.03.07主分类号H01L29/04

日期 2010-12-23   

碳化硅衬底上具有导电缓冲中间层结构的Ⅲ族氮化物光子器件

名称碳化硅衬底上具有导电缓冲中间层结构的Ⅲ族氮化物光子器件公开号1278949公开日2001.01.03主分类号H0

日期 2010-12-23   

一种制造电子元器件金属外壳用金刚石膜拉深模具

名称一种制造电子元器件金属外壳用金刚石膜拉深模具公开号2429278公开日2001.05.09主分类号B21D37/

日期 2010-12-23   

碳化硅与氮化镓间的缓冲结构及由此得到的半导体器件

名称碳化硅与氮化镓间的缓冲结构及由此得到的半导体器件公开号1137331公开日1996.12.04主分类号H01L33/

日期 2010-12-23   

磁记录媒体器件的经氟化处理的类金刚石碳保护覆层

名称磁记录媒体器件的经氟化处理的类金刚石碳保护覆层公开号1332446公开日2002.01.23主分类号G11B5/

日期 2010-12-16   

磁记录媒体器件的经氟化处理的类金刚石碳保护覆层

名称磁记录媒体器件的经氟化处理的类金刚石碳保护覆层公开号1155140公开日1997.07.23主分类号G11B5/

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