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改进的化学气相沉积生长方法,消除杂质,制备单层单晶石墨烯!

改进的化学气相沉积生长方法,消除杂质,制备单层单晶石墨烯!
改进的化学气相沉积生长方法,消除杂质,制备单层单晶石墨烯!
改进的化学气相沉积生长方法,消除杂质,制备单层单晶石墨烯!

科学家们研究了一个真正的单层,即大面积石墨烯薄膜覆盖在大面积铜箔上。改进了化学气相沉积(CVD)生长方法,消除了石墨烯生长在铜箔上的所有碳杂质。这种均匀“完美”的单层单...

日期 2019-09-05   

掺硼金刚石膜的电化学应用

掺硼金刚石膜的电化学应用
掺硼金刚石膜的电化学应用
掺硼金刚石膜的电化学应用

掺硼金刚石膜(BDD)是一种新型碳基电极材料,具有良好的导电性,电势窗宽,背景电流低,吸附低,抗污染,同时具有很高的化学稳定性(常温下不与任何酸碱介质反应),不易结垢,...

日期 2019-06-03   
化学气相沉积的金刚石圆盘是科学家控制核聚变反应不可或缺的材料

化学气相沉积的金刚石圆盘是科学家控制核聚变反应不可或缺的材料

图片所示为,用于核聚变反应堆和回旋管中的多晶CVD金刚石圆盘。图片来源:卡尔斯鲁厄理工学院因为核电能够给人们提供...

日期 2018-08-07   

化学气相沉积(CVD)技术梳理

1.化学气相沉积CVD的来源及发展化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition)中的VaporDeposition意为气相沉积,其意是指利用气相中发生的...

日期 2018-03-07   
CVD / PVD

高定向纳米金刚石膜的高功率微波等离子体化学气相沉积研究

高定向纳米金刚石膜的高功率微波等离子体化学气相沉积研究
高定向纳米金刚石膜的高功率微波等离子体化学气相沉积研究
高定向纳米金刚石膜的高功率微波等离子体化学气相沉积研究

摘要:采用高功率微波等离子体化学气相沉积法制备了高定向的纳米金刚石膜,研究了制备过程中促进高定向纳米金刚石膜的生长条件与生长规律间的关联,并采用扫描电镜、原子...

日期 2018-02-12   
微波等离子体化学气相沉积法生长单晶金刚石用的沉积台

微波等离子体化学气相沉积法生长单晶金刚石用的沉积台

申请号:201720707933.3申请日:2017.06.16申请人:北京科技大学发明人:李成明;赵云;林亮珍...

日期 2018-01-08   
一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备

一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备

申请号:201720497623.3申请日:2017.05.05申请人:宁波工程学院发明人:王瑞来;鲍明东;徐雪...

日期 2018-01-02   
 一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台

一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台

申请号:201720527928.4申请日:2017.05.12申请人:中国工程物理研究院应用电子学研究所发明人...

日期 2017-12-22   
瑞典乌普萨拉大学提出石墨烯光化学修饰法

瑞典乌普萨拉大学提出石墨烯光化学修饰法

石墨烯是重要的二维材料,共价修饰是实现功能化石墨烯材料的重要方法。发展温和的石墨烯修饰方法受到人们的广泛关注。近...

日期 2017-11-03   

吉林大学邹勃教授科研团队研究成果在《美国化学会志》上发表

吉林大学超硬材料国家重点实验室邹勃教授领导的科研团队在负压缩材料研究方面取得突破。研究人员发现金属-有机框架材料InH(BDC)2是目前为止已知的负压缩率最大的材料之一...

日期 2017-10-30   
一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置

一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置

申请号:201720267999.5申请日:2017.03.20国家/省市:中国河南(41)主分类号:C23C1...

日期 2017-10-09   
一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备的吹气装置

一种化学气相沉积镀制金刚石膜的设备的吹气装置

申请号:201710313388.4申请人:宁波工程学院发明人:鲍明东徐雪波吕志甲杨梦梦冯超何骅波丁兰&n

日期 2017-08-24   
纳米深度损伤层机械化学磨削方法

纳米深度损伤层机械化学磨削方法

申请号:201710222157.2申请人:大连理工大学发明人:张振宇黄思玲崔俊峰康仁科郭东明&

日期 2017-08-21   
利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法

利用化学气相沉积制备单层金刚石磨料工具的方法

申请号:201710072261.8申请人:上海交通大学上海交友钻石涂层有限公司发明人:孙方宏申笑天王新昶郭松寿...

日期 2017-07-19   
一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台

一种用于微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石膜的基片台

申请号:201710334592.4申请人:中国工程物理研究院应用电子学研究所发明人:李文君周霖程云冯真李春霞单...

日期 2017-07-14   
化学气相沉积金刚石刀具及其加工方法

化学气相沉积金刚石刀具及其加工方法

申请号:201710197936.1申请人:深圳市中天超硬工具股份有限公司发明人:林汉生刘敏解宇摘要:本发明涉及...

日期 2017-07-05   
微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置

微波等离子体化学气相沉积金刚石反应装置

申请号:201710244693.2申请人:于宗旭发明人:于宗旭摘要:本发明为一种微波等离子体化学气相沉积金刚石...

日期 2017-06-29   
一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置

一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置

申请号:201610920789.1申请人:哈尔滨工业大学发明人:白清顺王永旭赵航余天凯杜云龙张庆春摘要:一种用...

日期 2017-04-13   
一种在工件内孔沉积金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置

一种在工件内孔沉积金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置

申请号:201620932071.X申请人:中国科学院金属研究所发明人:姜辛刘鲁生黄楠杨兵翟超峰李俊豪贾心怡摘要...

日期 2017-02-28   

铝基碳化硼复合材料的SiC磨料辅助电化学加工

铝基碳化硼复合材料的SiC磨料辅助电化学加工
铝基碳化硼复合材料的SiC磨料辅助电化学加工
铝基碳化硼复合材料的SiC磨料辅助电化学加工

摘要:新型工业产业对轻量级材料的需求促使了铝基复合材料的研发和制备。在诸多AMMCs中,铝金属基体增强型碳化硼(B4C)由于其优良的耐磨性能、高硬度、高强度低重量比和高...

日期 2017-02-24   
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