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申请号: 201720267999.5

申请日: 2017.03.20

国家/省市: 中国河南(41)

主分类号: C23C 16/507(2006.01)

授权公告号: 206512273U

授权公告日: 2017.09.22

分类号: C23C 16/507(2006.01)

申请人: 郑州嘉晨化工科技有限公司

发明人: 皮超杰; 徐国龙; 夏震

申请人地址: 河南省郑州市新郑市龙湖镇中原工学院大学科技园10号楼

摘要： 本实用新型公开了一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置，包括CVD反应室，所述CVD反应室的内壁上设置有磁感应线圈，所述CVD反应室的底部设置有反应台，所述反应台的顶部设置有升降台，所述升降台的顶部设置有基体。本实用新型通过设置在CVD反应室上的真空泵和压力表，可对CVD反应室内的压力进行控制，使CVD反应室的压力保持在0.13Pa左右，在负偏压作用下沉积到基体上形成金刚石薄膜，在低压下生成的金刚石薄膜，厚度均匀、生产效率高、沉积速率高、稳定性好、可调性和重复性好，保证金刚石薄膜的质量，通过设置的均速喷气喷头，可将射频等离子发生器内的等离子均速喷在基体上，有效提高基体上形成的金刚石薄膜厚度均匀性和稳定性。

主权利要求

1.一种金刚石薄膜的射频等离子化学气相沉积装置，包括CVD反应室(1)和反应气体混合器(4)，其特征在于：所述CVD反应室(1)的内壁上设置有磁感应线圈(2)，所述CVD反应室(1)的底部设置有反应台(3)，所述反应台(3)的顶部设置有升降台(14)，所述升降台(14)的顶部设置有基体(13)，所述基体(13)和升降台(14)之间设置有衬底(12)，所述反应气体混合器(4)通过管道连接有甲烷气体罐(6)和氢气罐(7)，所述甲烷气体罐(6)和氢气罐(7)与反应气体混合器(4)之间均设置有流量计，所述反应气体混合器(4)的出口通过管道连接有射频等离子发生器(8)，所述射频等离子发生器(8)通过波导(9)与CVD反应室(1)连接。