鼎龙股份（300054）(300054.SZ)再传捷报。7月8日，鼎龙股份发布的公告显示，其控股子公司武汉鼎泽新材料技术有限公司(下称“鼎泽新材料”)仙桃园区生产的多晶...
化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技术是超大规模集成电路制造工艺中的关键技术之一，能实现集成电路（IC）制造中晶圆表面全局平...
鼎龙股份(300054.SZ)于2023年2月10日下午14:00-16:30接受调研时表示，国内CMP抛光液存...
根据Fact.MR报告显示，到2031年底，全球化学机械抛光（CMP）的抛光液市场预计将达到25亿美元。随着半导体行业的不断扩张，预计2021年至2031年，整个市场将...
1.招标条件本招标项目金刚石微粉与金刚石抛光液招标人为中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，招标项目资金来自国拨资金，出资比例为100%。该项目已具备招标条件，现对金...
申请号：201610039894.4申请人：河南省联合磨料磨具有限公司发明人：高礼明王森付存汪静摘要：本发明公开了一种金属抛光用复合抛光液及其制备方法，该复合抛光液由以...
申请号：201510655728.2申请人：郑州磨料磨具磨削研究所有限公司发明人：王沛王志强摘要：本发明公开了一种抛光液中纳米金刚石团聚体形貌修整方法，属于超精密抛光技...
申请号：201410818059.1申请人：北京国瑞升科技股份有限公司发明人：苑亚斐许亚杰摘要：本发明涉及
申请号：201310297761.3申请人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司鸿海精密工业股份有限公司摘要：本发明提供一种水性金刚石抛光液，由下列重量分数的组分组成：金刚石
申请号：201310071571.X申请人：天津市乾宇超硬科技有限公司摘要：本发明提供制备多种粒度的用于晶体加工的水基金刚石抛光液的方法，该抛光液适宜抛光多种晶体。使用...
申请号:201310556771.4申请人:东南大学摘要：本发明公开一种高纯度纳米金刚石抛光液，由下述质量份材料构成：纳米金刚石0.05-10份，湿润剂0.01-2份，...
申请号：201310538875申请人：昆山宏凌电子有限公司摘要：一种LED行业用超精细清洗抛光液：10-15%椰子油酰二乙醇胺；金刚石颗粒，且所述金刚石颗粒为50~6...
胡志孟1.3,雒建斌2,李同生3(1.复旦大学高分子科学系,上海200433;2.清华大学精密仪器与机械学系,摩擦学国家重点实验室,北京100084;3.上海大学,上海...
专利号：201110244241申请人：永州皓志稀土材料有限公司技术简要说明：本发明公开的一种纳米金刚石抛光液的制备方法，涉及非稀土抛光材料制备技术领域
摘要化学机械抛光（ＣＭＰ）已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。抛光液在ＣＭＰ过程中发挥着重要作用。介绍了ＣＭＰ过程中抛光液的作用的研究进展，综合归纳了抛光液...
记者7月4日从包头市科技局了解到，包头稀土研究院日前与包头天骄清美稀土抛光粉有限公司签订了氧化铈新型半导体抛光液科研项目合作开发协议，标志着我国在化学机械抛光技术研发领...
10月28日，中国超硬材料网总经理石超、顾问吕华伟、南阳富栊...
为了解超硬材料及超硬材料制品发展现状，10月22日，中国超硬...
中国超硬材料网将通过一件件大事件回顾2023年的超硬材料行业华丽蝶变，在回顾和盘点中，温故知新！
2023年9月20日，时隔四年，期待已久的第六届磨料磨具磨削展览会在郑州国际会展中心隆重开幕。本次展览会由中国机械工业集团有限公司、国机精工股份有限公司、中国机械国际合作股份有限公司联合主办。旨在推动中国磨料磨具行业的快速发展，加强国内外企业的交流与合作。
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