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单晶金刚石技术将首次应用于化学机械抛光中

单晶金刚石技术将首次应用于化学机械抛光

随着半导体技术的飞速发展,化学机械抛光(CMP)作为一项关键工艺,承担着集成电路制造中平整化处理的重任。CMP工...

日期 2024-09-13   超硬新闻
“芯片制造化学机械抛光电镀金刚石修整盘”项目拟立项 武汉超硬材料企业获资金支持

“芯片制造化学机械抛光电镀金刚石修整盘”项目拟立项 武汉超硬材料企业获资金支持

近日,武汉市科创局公示了《2024年度第一批科技成果转化项目拟立项项目》,来自武汉市汇达材料科技有限公司的“芯片...

日期 2024-08-16   超硬新闻
关于薄膜金刚石的化学机械抛光的研究报告

关于薄膜金刚石的化学机械抛光的研究报告

摘要纳米晶金刚石(NCD)可以保留单晶金刚石的优越杨晶模量(1100GPa),以及在低温下生长的能力(

日期 2022-01-26   超硬新闻

金刚石化学机械抛光研究现状

金刚石化学机械抛光研究现状
金刚石化学机械抛光研究现状
金刚石化学机械抛光研究现状

摘要:金刚石由于其独特的性质成为未来科技的重要材料,但较差的表面质量会影响其在高科技领域的应用,因此实现金刚石超精密加工是提高金刚石应用的关键。化学机械抛光(CMP)是...

日期 2021-07-30   超硬新闻

化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展

化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展
化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展
化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展

摘要化学机械抛光(CMP)已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。抛光液在CMP过程中发挥着重要作用。介绍了CMP过程中抛光液的作用的研究进展,综合归纳了抛光液...

日期 2012-06-06   技术信息

化学机械抛光

化学机械抛光的原理是,在机械研磨晶片的同时发生了化学腐蚀作用,这样就能除去切片或磨片时所产生的机械表面损伤层(或称亚表面损伤层),使晶体片表面光洁如镜,达到预定的抛光效...

日期 2008-03-18   技术信息
  共 6 条记录

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第六届磨料磨具磨削展览会暨2023金刚石产业大会

第六届磨料磨具磨削展览会暨2023金刚石...

2023年9月20日,时隔四年,期待已久的第六届磨料磨具磨削展览会在郑州国际会展中心隆重开幕。本次展览会由中国机械工业集团有限公司、国机精工股份有限公司、中国机械国际合作股份有限公司联合主办。旨在推动中国磨料磨具行业的快速发展,加强国内外企业的交流与合作。