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论文推介丨金刚石化学机械抛光研究进展

论文推介丨金刚石化学机械抛光研究进展
论文推介丨金刚石化学机械抛光研究进展
论文推介丨金刚石化学机械抛光研究进展

金刚石以优异的性能在力学、光学、热学和电子学(如半导体)等领域发挥着重要作用。然而,金刚石表面质量会影响其在这些领域的应用效果,因此通过高效抛光技术获得高质量表面一直是...

日期 2024-12-13   

金刚石化学机械抛光研究进展

金刚石化学机械抛光研究进展
金刚石化学机械抛光研究进展
金刚石化学机械抛光研究进展

金刚石以优异的性能在力学、光学、热学和电子学(如半导体)等领域发挥着重要作用。在半导体、散热等领域,仅2023年金刚石的市场规模达到数亿美元的增幅,且火热程度仍将持续。...

日期 2024-11-20   
单晶金刚石技术将首次应用于化学机械抛光中

单晶金刚石技术将首次应用于化学机械抛光

随着半导体技术的飞速发展,化学机械抛光(CMP)作为一项关键工艺,承担着集成电路制造中平整化处理的重任。CMP工...

日期 2024-09-13   
“芯片制造化学机械抛光电镀金刚石修整盘”项目拟立项 武汉超硬材料企业获资金支持

“芯片制造化学机械抛光电镀金刚石修整盘”项目拟立项 武汉超硬材料企业获资金支持

近日,武汉市科创局公示了《2024年度第一批科技成果转化项目拟立项项目》,来自武汉市汇达材料科技有限公司的“芯片...

日期 2024-08-16   
关于薄膜金刚石的化学机械抛光的研究报告

关于薄膜金刚石的化学机械抛光的研究报告

摘要纳米晶金刚石(NCD)可以保留单晶金刚石的优越杨晶模量(1100GPa),以及在低温下生长的能力(

日期 2022-01-26   

金刚石化学机械抛光研究现状

金刚石化学机械抛光研究现状
金刚石化学机械抛光研究现状
金刚石化学机械抛光研究现状

摘要:金刚石由于其独特的性质成为未来科技的重要材料,但较差的表面质量会影响其在高科技领域的应用,因此实现金刚石超精密加工是提高金刚石应用的关键。化学机械抛光(CMP)是...

日期 2021-07-30   

化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展

化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展
化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展
化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展

摘要化学机械抛光(CMP)已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。抛光液在CMP过程中发挥着重要作用。介绍了CMP过程中抛光液的作用的研究进展,综合归纳了抛光液...

日期 2012-06-06   

化学机械抛光

化学机械抛光的原理是,在机械研磨晶片的同时发生了化学腐蚀作用,这样就能除去切片或磨片时所产生的机械表面损伤层(或称亚表面损伤层),使晶体片表面光洁如镜,达到预定的抛光效...

日期 2008-03-18   
  共 8 条记录

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