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化学气相沉积金刚石均质喷嘴

名称化学气相沉积金刚石均质喷嘴公开号2423289公开日2001.03.14主分类号C23C16/27

日期 2010-12-23   

化学气相沉积法碳化硅连续纤维用碳芯的制备方法

名称化学气相沉积法碳化硅连续纤维用碳芯的制备方法公开号1103904公开日1995.06.21主分类号D01F9/155

日期 2010-12-22   

回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法

名称回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法公开号1355330公开日2002.06.26主分类号C23C1

日期 2010-12-21   

光子-热丝化学气相沉积生长大面积金刚石薄膜的方法

名称光子-热丝化学气相沉积生长大面积金刚石薄膜的方法公开号1355329公开日2002.06.26主分类号C23C1

日期 2010-12-21   

一种热丝化学气相沉积金刚石的设备

名称一种热丝化学气相沉积金刚石的设备公开号2283067公开日1998.06.03主分类号C23C16/26&nbs

日期 2010-12-21   

化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石材料及应用

名称化学气相沉积金刚石聚晶金刚石复合型金刚石材料及应用公开号CN1504591公开日2004.06.16主分类号C

一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法

名称一种复合激光化学气相沉积金刚石膜的方法公开号1221806公开日1999.07.07主分类号C23C16/26&

日期 2010-12-10   

一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备

名称一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备公开号1160089公开日1997.09.24主分类号C23C

日期 2010-12-10   

一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法

名称一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法公开号1122378公开日1996.05.15主分类号C23C16/26&nb

日期 2010-12-10   

韧化的化学气相沉积金刚石

名称韧化的化学气相沉积金刚石公开号1112904公开日1995.12.06主分类号C01B31/06

日期 2010-12-10   

弧光放电化学气相沉积金刚石薄膜的方法

名称弧光放电化学气相沉积金刚石薄膜的方法公开号1041187公开日1990.04.11主分类号C23C16/26&n

日期 2010-12-09   

化学气相沉积层技术在切削上的应用

化学气相沉积层的优点是:膜层致密,与基体结合牢固,沉积性好,膜厚且比较均匀,膜层质量比较稳定,易于实现大批量生产等。近几年来,cvD技术已广泛应用于机械和仪表零件、刀具...

日期 2009-01-19   

物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层

物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层
物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层
物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层

1引言由于氧化铝薄膜具有令人关注的优异性能,如高温稳定性、化学稳定性、低的热导率和电导率等,目前利用化学气相沉积(CVD)涂覆氧化铝薄膜作为耐磨涂层材料已广泛应用于硬质...

日期 2008-03-07   

何为化学气相沉积(CVD)?

CVD是ChemicalVaporDeposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生...

日期 2008-02-17   

SP3公司新近推出双反应釜化学气相沉积设备

美国SP3公司近期推出新型热丝化学气相沉积设备——Model665。这一新型双反应釜设备可一次性容纳18片直径为100毫米的基体,这意味着其沉积...

日期 2010-10-25   

法IonBond气相沉积涂层新基地投入运营

法国OLTEN消息,法国IonBondPVD涂料公司近日宣布,随着公司业务规模的不断扩大,IonBond将原设在Neuilly-en-Thelle地区的业务迁入Bert...

日期 2008-08-08   
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