回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法
关键词 回旋电子 , 气相沉积 , 金刚石 , 薄膜|2010-12-21 00:00:00|行业专利|来源 中国超硬材料网
摘要 名称回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法公开号1355330公开日2002.06.26主分类号C23C1
名称 |
回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法 |
公开号 |
1355330 |
公开日 |
2002.06.26 |
主分类号 |
C23C16/27 |
分类号 |
C23C16/27;C23C16/48 |
申请号 |
00132597.3 |
分案原申请号 |
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申请日 |
2000.11.30 |
颁证日 |
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优先权 |
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申请人 |
黑龙江省光电技术研究所 |
地址 |
157000黑龙江省牡丹江市光华街106-1号 |
发明人 |
申家镜;申辉;邵春雷;张传胜;魏雪峰 |
国际申请 |
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国际公布 |
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进入国家日期 |
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专利代理机构 |
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代理人 |
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摘要 |
回旋电子增强热丝化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法,其特征是在生长衬底的下部设置能产生可使电子作螺旋曲线运动的环形磁场的线圈。本发明可增加金刚石膜的生长速度,提高金刚石膜的质量 |
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