一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法 _专利

一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法

关键词激光化学气相沉积 , 金刚石膜|2010-12-10 00:00:00|行业专利|来源中国超硬材料网

摘要名称一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法公开号1122378公开日1996.05.15主分类号C23C16/26&nb

名称	一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法
公开号	1122378	公开日	1996.05.15
主分类号	C23C16/26	分类号	C23C16/26;C23C16/48
申请号	95111978.8
分案原申请号		申请日	1995.09.11
颁证日		优先权
申请人	中国科学院金属研究所	地址	110015辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
发明人	冯钟潮; 赵岩; 张炳春	国际申请
国际公布		进入国家日期
专利代理机构	中国科学院沈阳专利事务所	代理人	张晨
摘要	一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为２５０℃，其特征在于选用波长在３０８ｎｍ的ＸｅＣｌ准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用ＸｅＣｌ准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气（含汽化液体或固体）和氢气，碳氢化合物反应气与氢气的流量比为（１ —３）∶１００，在适当工艺条件下，在衬底表面沉积出金刚石膜，工艺条件是：单脉冲能量２０—５００ｍｊ／ｐｕｌｓｅ脉宽１５—４０ｎｓ脉冲频率５—４０Ｈｚ。本发明所制膜层纯度高，沉积温度低，易于实现，安全可靠。

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