无依托超薄金刚石X光窗口及其制备工艺 _专利

无依托超薄金刚石X光窗口及其制备工艺

关键词超薄金刚石 , X光窗口 , 制备工艺 |2010-12-22 00:00:00|行业专利|来源中国超硬材料网

摘要名称无依托超薄金刚石X光窗口及其制备工艺公开号1386897公开日2002.12.25主分类号C23C16/27&n

名称	无依托超薄金刚石 X光窗口及其制备工艺
公开号	1386897	公开日	2002.12.25
主分类号	C23C16/27	分类号	C23C16/27;H01L31/115;H01L31/18
申请号	02111270.3
分案原申请号		申请日	2002.04.04
颁证日		优先权
申请人	复旦大学	地址	200433上海市杨浦区邯郸路220号
发明人	应萱同	国际申请
国际公布		进入国家日期
专利代理机构	上海正旦专利代理有限公司	代理人	陆飞
摘要	本发明属于光电子功能材料及器件技术领域，具体涉及一种用无依托超薄金刚石多晶薄膜制备的新一代X光窗口及其制备工艺。本发明采用金刚石薄膜高密度(10#+[9－10]/cm#+[2])成核及优化生长工艺，制备无依托超薄金刚石多晶薄膜，再用化学方法刻蚀掉一部分硅基板，形成直径为4－8毫米的完全无依托超薄金刚石X光窗口。该窗口在50－1550ev波段具有良好的透射率，具有低吸收、高热导的优良特性及很高的抗辐射特性，远优于传统的X光铍窗口，可广泛应用于X光元素分析、深亚微米超大规模集成电路制版技术、生物医学、物理、化学等研究领域

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