名称 | 复杂形状CVD金刚石/类金刚石复合涂层刀具制备方法 | ||
申请号 | 201210124337 | 申请日 | 2012年4月25日 |
公开号 | 102650053A | 公开日 | 2012年8月29日 |
申请人 | 上海交通大学 上海澳尼森特种表面处理技术有限公司 | 地址 | 上海市闵行区东川路800号 |
发明人 | 沈彬 孙方宏 阮华权 顾宝龙 张志明 | 主分类号 | C23C 28/04 |
国家/省市 | 中国上海( 31 ) | 分类号 | C23C 28/04 C23C 16/44 C23C 16/27 C23C 14/35 C23C 14/06 |
摘要 | 本发明公开了一种复杂形状CVD金刚石/类金刚石复合涂层刀具的制备方法。采用热丝CVD法在刀具表面沉积一层MCD薄膜,在沉积过程中采用负偏压产生离子轰击保证MCD薄膜具有光滑表面;随后继续沉积一层DLC薄膜,在初始阶段,用正负脉冲离子电源对涂覆了MCD薄膜的刀具表面进行离子轰击,以清除刀具表面的杂质,并去除涂层表面尖锐的晶粒棱角,增加涂层平整度,提高涂层表面活性,达到增强层间附着强度的效果。采用本发明的制备方法能够在具有复杂形状表面的整体式硬质合金刀具表面沉积获得具有优异膜-基附着强度、表面耐磨减摩及自润滑特性的CVD金刚石/类金刚石复合涂层,该复合涂层还具有内应力低、表面光滑平整、厚度均匀等特点。 | ||
独立权利要求 | 1.一种复杂形状CVD金刚石/类金刚石复合涂层刀具制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一:采用热丝CVD法在经过预处理后的复杂形状整体式硬质合金刀具表面沉积一层MCD薄膜;步骤二:采用磁控等离子溅射法在涂覆了MCD薄膜的涂层刀具表面继续沉积一层DLC薄膜,即可。 |
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