名称 | 一种纳米碳化硅材料的制备方法 | ||
公开号 | 1327944 | 公开日 | 2001.12.26 |
主分类号 | C01B31/36 | 分类号 | C01B31/36 |
申请号 | 01127650.9 | ||
分案原申请号 | 申请日 | 2001.07.25 | |
颁证日 | 优先权 | ||
申请人 | 中山大学 | 地址 | 510275广东省广州市新港西路135号 |
发明人 | 许宁生;吴志盛;邓少芝;周军 | 国际申请 | |
国际公布 | 进入国家日期 | ||
专利代理机构 | 广州市专利事务所 | 代理人 | 华辉 |
摘要 | 本发明涉及一种纳米碳化硅材料的制备方法。本方法以商用纳米量级、微米量级或块状等不同形状和大小的SiC原料为原材料,加上催化剂,预先抽真空,然后通入惰性气体作为保护气氛,最后加热至1300~2000℃并保温一段时间,制备得到的具有碳化硅纳米棒或纳米线的纳米材料,有助于相关碳化硅光电器件,特别是纳米光电器件和场发射阴极电子源的研制。本方法工艺简单,原材料成本低,产率高。 |