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微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜   

名称微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜公开号1066299公开日1992.11.18主分类号C23C16/26&n

弧光放电化学气相沉积金刚石薄膜的方法

名称弧光放电化学气相沉积金刚石薄膜的方法公开号1041187公开日1990.04.11主分类号C23C16/26&n

日期 2010-12-09   行业专利

基于电火花放电沉积的金属基体砂轮再制造技术及装置取得阶段性成果

近日,由湖大海捷(湖南)工程技术研究有限公司承担的“十一五”国家科技支撑计划“绿色制造关键技术及装备”重大项目&ldqu...

日期 2010-12-09   超硬新闻

美国SP3公司为赫瑞瓦特大学安装先进的金刚石沉积设备

美国SP3金刚石技术公司(以下简称SP3公司)是一家全球领先的金刚石薄膜产品、生长设备以及服务供应商。在不久前销售出一套先进的650型热丝法CVD金刚石沉积设备之后,S...

化学气相沉积层技术在切削上的应用

化学气相沉积层的优点是:膜层致密,与基体结合牢固,沉积性好,膜厚且比较均匀,膜层质量比较稳定,易于实现大批量生产等。近几年来,cvD技术已广泛应用于机械和仪表零件、刀具...

日期 2009-01-19   技术信息

化学镍沉积初期和末期反应速度的管理方法

在化学镍沉积的过程中会产生亚磷酸盐的副产物,并且随着生产的进行,亚磷酸盐的浓度也会越来越高。于是反应速度受生成物浓度的升高而降低。因此,反应初期和反应末期的沉积速度会产...

日期 2008-04-11   技术信息

物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层

物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层
物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层
物理气相沉积(PVD)制备氧化铝涂层

1引言由于氧化铝薄膜具有令人关注的优异性能,如高温稳定性、化学稳定性、低的热导率和电导率等,目前利用化学气相沉积(CVD)涂覆氧化铝薄膜作为耐磨涂层材料已广泛应用于硬质...

日期 2008-03-07   技术信息

影响镀锌层沉积速度的十二种要素

(1)前处理不彻底。工件表面有氧化膜,影响锌的正常沉积。(2)导电不良。电流在导线上消耗,分配到工件表面的电流过小。(3)工件含碳量高。高碳钢、铸铁件等会降低氢的析出电...

日期 2008-03-03   技术信息

无镀层沉积尖端凸出部位

工件尖端凸出部位无镀层沉积有以下三种可能。(1)阴极电流密度过高,此处电流效率过低,电镀时猛力析出气体,难以沉上镀层;(2)阴极电化学除油时电流密度过高,沉上过多的污物...

日期 2008-02-25   技术信息

晶体组织受控生长的CVD α-Al2O3涂层的沉积、显微结构和特性

本文研究了晶核形成对CVDAl2O3显微结构和涂层性能的影响。实验用α-Al2O3涂层分别按以下条件沉积:①未采用成核控制;②采用成核控制并获得了明确的(1...

日期 2008-02-20   技术信息

何为化学气相沉积(CVD)?

CVD是ChemicalVaporDeposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生...

日期 2008-02-17   技术信息

化学镀时出现沉积不上或沉积不全是什么原因?

用于塑料电镀的化学镀液多数是化学镀铜,一般常用的化学镀铜溶液的配方是:硫酸铜7g/L酒石酸钾钠25g/L氢氧化钠5g/L氯化镍lg/L碳酸钠2g/L甲醛l5mL/LpH...

日期 2008-02-03   技术信息

SP3公司新近推出双反应釜化学气相沉积设备

美国SP3公司近期推出新型热丝化学气相沉积设备——Model665。这一新型双反应釜设备可一次性容纳18片直径为100毫米的基体,这意味着其沉积...

日期 2010-10-25   超硬新闻

法IonBond气相沉积涂层新基地投入运营

法国OLTEN消息,法国IonBondPVD涂料公司近日宣布,随着公司业务规模的不断扩大,IonBond将原设在Neuilly-en-Thelle地区的业务迁入Bert...

日期 2008-08-08   企业新闻

最新科技成果项目介绍——脉冲激光沉积法(PLD)制备纳米薄膜

项目介绍:随着激光器性能的不断提高,在众多的薄膜制备方法中,PLD技术的应用最为广泛,可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各...

日期 2009-07-18   超硬新闻

燃焰法沉积金刚石薄膜涂层刀具时的生长均匀性研究

摘要在分析研究燃焰法合成金刚石机理的基础上,研究了用燃焰法在刀具上沉积金刚石薄膜时的生长均匀性问题。提出了刀刃上金刚石的异常生长原因及抑制方法,获得了涂层均匀的金刚石薄...

日期 2010-04-01   超硬新闻

硬质合金上金刚石膜的沉积

硬质合金上金刚石膜的沉积
硬质合金上金刚石膜的沉积
硬质合金上金刚石膜的沉积

在硬质合金上化学气相沉积(CVD)的金刚石薄膜涂层工具已经显示出极好的工业应用前景。但是,这类工具材料应用的最大技术障碍是所沉积的金刚石薄膜与硬质合金基体间的结合强度太...

日期 2008-06-28   超硬新闻
美国SP3公司为赫瑞瓦特大学安装先进的金刚石沉积设备

美国SP3公司为赫瑞瓦特大学安装先进的金刚石沉积设备

美国SP3公司为赫瑞瓦特大学安装先进的金刚石沉积设备——化学气相沉积金刚石应用新进展美国...

日期 2007-11-12   超硬新闻

硅表面碳离子束沉积金刚石形核的研究

在用CVD方法在单晶硅上生长金刚石薄膜有着诱人的应用前景,目前存在的一个问题是如何提高金刚石的形核率。很多方法用来提高形核率,例如用细砂纸打磨硅表面,Si+轰击硅表面。...

日期 2005-07-08   超硬新闻
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