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纳米晶碳化硅薄膜的低温沉积工艺

纳米晶碳化硅薄膜的低温沉积工艺

摘要:利用反应磁控溅射技术在纯氢等离子体中100~600℃衬底温度(Ts)下沉积出碳化硅薄膜。红外吸收光谱和投射...

日期 2016-01-25   技术信息

微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜   

名称微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜公开号1066299公开日1992.11.18主分类号C23C16/26&n

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