微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜　　 _专利

微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜　　

关键词微波法 , 低温沉积 , 细晶粒金刚石薄膜　　 |2010-12-09 00:00:00|行业专利|来源中国超硬材料网

摘要名称微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜公开号1066299公开日1992.11.18主分类号C23C16/26&n

名称	微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜
公开号	1066299	公开日	1992.11.18
主分类号	C23C16/26	分类号	C23C16/26;C23C16/48
申请号	91102584.7
分案原申请号		申请日	1991.04.28
颁证日		优先权
申请人	北京科技大学	地址	100083北京市学院路30号
发明人	杨保雄; 吕反修; 蒋高松; 叶锐曾	国际申请
国际公布		进入国家日期
专利代理机构	北京科技大学专利代理事务所	代理人	刘月娥
摘要	本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有０．１—１０％的高纯氧气，０．１— １０％的高纯甲烷，剩余为高纯氢气，工作气体的压力为１—１００τ，在金刚石膜沉积过程中微波功率为１００—５００瓦。本发明的优点在于工艺简单、重复性强，突破了金刚石薄膜的应用领域，可用于光学、电学领域。