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专利:快速沉积类金刚石薄膜的装置

关键词 金刚石 , 薄膜|2013-06-08 09:19:33|行业专利|来源 中国超硬材料网
摘要 申请号:201310074074申请人:北京科技大学摘要:本发明为一种快速制备类金刚石薄膜的方法及装备。采用射频空心阴极效应,将等离

  申请号:201310074074

       申请人:北京科技大学

       摘要:本发明为一种快速制备类金刚石薄膜的方法及装备。采用射频空心阴极效应,将等离子体束缚在一个特定的区域,负辉区合并,气体离化率成倍增加。同时,射频辉光放电过程中,电子被束缚在电极间,在放电空间来回运动,增加了与气体分子碰撞的次数,使电离能力显著提高从而提高等离子体的密度和能量,进而提高薄膜的沉积速率和膜质量,并显著提高生产效率,降低产品成本,易于实现工业化生产。

       独立权利要求:1.一种快速沉积类金刚石薄膜的装置,所述装置包括真空室、真空系统、电源系统、工件装卡及旋转系统、工作气体及反应气体的供给及流量控制系统;其特征在于:所述装置还包括一射频空心阴极系统,所述系统为平板型,包括上阴极板及下阴极板,所述任一极板一侧设有气路接口,气体通过该极板供给,基片放在另一极板上;下阴极板安装在工件装卡及旋转系统的旋转支架上,气体由真空室通气口供给;上下阴极板通过三个长度可调螺杆连接,通过调整配套的螺母,调节两极板板间距,空心阴极系统通过下阴极板连接射频电源进行供电。

 

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