名称 | 间隔温差法合成0.5~1mm金刚石单晶的结构 | ||
公开号 | 2268037 | 公开日 | 1997.11.19 |
主分类号 | C30B35/00 | 分类号 | C30B35/00;C01B31/06 |
申请号 | 96240734.8 | ||
分案原申请号 | 申请日 | 1996.09.26 | |
颁证日 | 1997.10.18 | 优先权 | |
申请人 | 方啸虎 | 地址 | 311100浙江省余杭市(临平)余杭市科委翟中平收 |
发明人 | 方啸虎; 郝兆印; 王琰第 | 国际申请 | |
国际公布 | 进入国家日期 | ||
专利代理机构 | 余杭中平专利事务所 | 代理人 | 翟中平 |
摘要 | 间隔温差法合成0.5~1mm金刚石单晶的结构属晶体生长制造领域。其实质是:2~6层小触媒片以特殊形式纵向立装在石墨层内的叶蜡石方块腔体内,其小触媒片间由石墨片间隔。优点:一是采用间隔温差结构用于生产0.5~1mm的金刚石单晶时,该结构具有易捕捉最佳优晶区及相邻的较佳优晶区;二是在同一层温度梯度较小,相邻层内有一定的温度梯度,可同时获得粗粒高强单晶;三是轴中心有或无导热棒,均可使整个腔体温度更加均一;四是粒度比较均一,以0.5~1mm为主 |