名称 | 一种亚微米级碳化硅的生产方法 | ||
公开号 | 1344675 | 公开日 | 2002.04.17 |
主分类号 | C01B31/36 | 分类号 | C01B31/36;B24D3/34;C09K3/14;C08J5/14 |
申请号 | 01124696.0 | ||
分案原申请号 | 申请日 | 2001.08.07 | |
颁证日 | 优先权 | ||
申请人 | 宁夏回族自治区新技术应用研究所 | 地址 | 750021宁夏回族自治区银川市新市区朔方路9号 |
发明人 | 祁利民;吴澜尔;刘雅琴;马丽娟;杨政红;马泉山;王富洲;? | 国际申请 | |
国际公布 | 进入国家日期 | ||
专利代理机构 | 宁夏专利服务中心 | 代理人 | 叶学军 |
摘要 | 本发明涉及一种亚微米级碳化硅的生产方法,包括在碳化硅研磨介质存在的条件下,将粒度为100-1500目的碳化硅稀料浆研磨60~90小时,其特点是在碳化硅稀浆料中添加分散剂,并将碳化硅研磨介质按其粒径的大、中、小配比加入,本发明具有设备投资小,生产工艺简单,质量容易控制等优点,它只进行一次粉碎加工就能达到使85-99%的碳化硅粉体粒径小于1微米。 |