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　　申请号：201610040882.3
　　申请人：中国电子科技集团公司第三十八研究所
　　发明人：郑磊 刘华荣 王俊听 罗婷婷 李艺晶

　　摘要：本发明公开了一种金刚石射线靶、制备方法及应用，包括金刚石片、窗口封接环和薄膜阳极，所述金刚石片通过焊料焊接在窗口封接环上，所述薄膜阳极沉积在金刚石片朝向电子束的一面。在窗口封接环上开设连接孔，连接孔的两端为台阶面，将焊料放入台阶面，再将金刚石片放入台阶面上，焊接过程中确保金刚石压紧焊接在窗口封接环上；焊接后，将金刚石片以外的部分挡住，在金刚石朝向电子束的一面沉积薄膜阳极。通过优化镀膜工艺和焊接工艺，使透射式X射线管金刚石窗口、薄膜阳极、散热层三者之间具有良好的热力学接触性能，可提高微焦点X射线管连续使用时的可靠性。

　　主权利要求：1.一种金刚石射线靶，其特征在于，包括金刚石片、窗口封接环和薄膜阳极，所述金刚石片通过焊料焊接在窗口封接环上，所述薄膜阳极沉积在金刚石片朝向电子束的一面。
　　2.根据权利要求1所述的一种金刚石射线靶，其特征在于，所述窗口封接环上开设连接孔，所述连接孔的两端为台阶面，所述金刚石片的端部放置在所述台阶面上并通过焊料焊接在所述台阶面上。
　　3.根据权利要求1所述的一种金刚石射线靶，其特征在于，所述射线靶还包括散热层，所述散热层镀膜于所述薄膜阳极朝向电子束的一面。
　　4.根据权利要求1所述的一种金刚石射线靶，其特征在于，所述薄膜阳极的厚度为1～10μm，所述金刚石的厚度为0.05～0.3mm。
　　5.根据权利要求1所述的一种金刚石射线靶，其特征在于，所述金刚石片为化学气相沉积法制备得到，所述薄膜阳极朝向电子束的一面为所述金刚石片的成核面。
　　6.一种如权利要求1所述的金刚石射线靶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)在窗口封接环上开设连接孔，连接孔的两端为台阶面，将焊料放入台阶面，再将金刚石片放入台阶面上，焊接过程中确保金刚石压紧焊接在窗口封接环上；(2)焊接后，将金刚石片以外的部分挡住，在金刚石朝向电子束的一面沉积薄膜阳极。
　　7.根据权利要求6所述的一种金刚石射线靶的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括步骤(3)，在薄膜阳极上朝向电子束的一面上镀膜散热层。
　　8.根据权利要求6所述的一种金刚石射线靶的制备方法，其特征在于，所述薄膜阳极选自钨、钼、无氧铜或金中的任一种材料制备而成。
　　9.根据权利要求6所述的一种金刚石射线靶的制备方法，其特征在于，所述焊接方式为真空钎焊或氩气保护钎焊，焊料选自银、铜、钛、金的一种或多种。
　　10.一种金刚石射线靶在透射式微焦点X射线管中的应用。