申请人：南京航空航天大学
专利号：CN102242374A
一种钛基掺硼金刚石涂层电极的制备方法，它是通过在基底材料上溅射过渡层，再在此基础上CVD法沉积掺硼金刚石涂层来实现的。由基材、过渡层和金刚石层构成的电极，其特征在于所述的基材为钛，过渡层为通过磁控溅射的铌或钽，CVD工艺中使用掺硼浓度为6000-10000ppm。本发明提供了长寿、高电解率的BDD电极的制备方法，它具有成本低，高重复性的优点。
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