一种高比表面积碳化硅及其制备方法
关键词 制备方法|2010-12-24 00:00:00|行业专利|来源 中国超硬材料网
摘要 名称一种高比表面积碳化硅及其制备方法公开号1401565公开日2003.03.12主分类号C01B31/36
名称 |
一种高比表面积碳化硅及其制备方法 |
公开号 |
1401565 |
公开日 |
2003.03.12 |
主分类号 |
C01B31/36 |
分类号 |
C01B31/36;B01J27/224 |
申请号 |
02130064.X |
分案原申请号 |
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申请日 |
2002.08.19 |
颁证日 |
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优先权 |
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申请人 |
中国科学院山西煤炭化学研究所 |
地址 |
030001山西省太原市165信箱 |
发明人 |
郭向云;靳国强;梁萍;王冬华 |
国际申请 |
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国际公布 |
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进入国家日期 |
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专利代理机构 |
山西五维专利事务所(有限公司) |
代理人 |
李毅 |
摘要 |
一种高比表面积碳化硅的直径为10-20nm,比表面积为60-160m#+[2]/g, 孔径分布范围为3-100nm。制备方法采用将酚醛树脂和乙醇或丙酮混合,再将铝溶胶、正硅酸乙酯和酚醛树脂溶于混合溶液中,同时加入草酸,搅拌水解;再 加入六次甲基四氨进行凝胶,干燥,在通入氩气条件下,加热,反应降至室温;在空气中氧化,再酸洗。本发明具有操作简单,成本低廉,易于规模生产的优点。 |
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