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　　美国ADT公司于2009年10月6日宣布推出世界上最光滑的气相沉积金刚石产品——UNCD Horizon。该产品代表了金刚石晶圆技术的新一代飞跃。这种金刚石膜的表面粗糙度水平与电子级硅片相当，为金刚石在各种电子和生物医学设备的应用开辟了新的前景。
　　
　　ADT公司UNCD产品表面粗糙度达10纳米数量级的杰出光滑特性已为众人所周知，他们新推的UNCD Horizon产品水平则再上新台阶——表面粗糙度可达1纳米数量级。如此光滑的金刚石材料可与其他材料结合到一起，并在射频、微机电器件、纳米压印光刻、金刚石纳米光子技术、生物传感器以及生物医学设备等领域获得突破性应用。另一方面，这一产品还可使金刚石散热片与晶体管直接联结，从而解决了半导体产业中一项最令人头痛的问题。此外，它还允许在金刚石材料上面直接进行外延硅沉积。
　　
　　为了实现UNCD Horizon的超高光洁度，ADT公司应用了一项半导体标准加工技术——化学机械抛光技术，并将其用在UNCD系列材料的加工。“化学机械抛光将为应用晶圆尺度加工技术开发金刚石器件开辟了巨大的可能性”，ADT公司首席技术官John Carlisle评价说。作为世界上最坚硬的材料。金刚石极难实现平坦化。ADT公司的UNCD盘片已经非常光滑，他们在此基础上应用化学机械抛光技术，从而实现了超高平整度。
　　
　　UNCD Horizon使声表面波器件在集成金刚石及高度优化氮化铝压电薄膜的无线移动方面获得潜在应用。该装置结合了低插入损耗、更高工作频率以及可与CMOS驱动电路直接集成的优点，从而提高整体性能。平整度对于降低能耗至关重要。对此，Vectron International公司首席技术官Dan Stevens介绍说：“生产如此超光滑表面金刚石片的能力将可能使金刚石在射频电子领域，特别是在吉赫兹频率范围工作的滤波器件方面获得许多新应用。”
　　
　　哥伦比亚大学正在将UNCD Horizon使用在纳米压印光刻领域，以期在衬底上印制分辨率高于10纳米的纳米尺度图案，这些衬底被用于制造生物用流通池和半导体。由于UNCD Horizon能够在几纳米的特征尺寸范围内实现优良的机械性能、较低的黏附以及良好的生物相容性，因此它特别适合用于制造纳米压印模具。哥伦比亚大学纳米技术中心Mark Schvartzman 认为，“UNCD Horizon材料极低的表面粗糙度在制造可持久承受较高压力以及机械作用力的纳米压印模版方面满足我们的需求。”
　　
　　通过利用UNCD Horizon，哈佛大学的研究人员正在研发金刚石纳米光子技术，以期应用在生物化学传感、光学信息处理、纳米机械等领域。“相信我们目前正在开发的金刚石纳米光子技术将在量子信息处理和遥感应用方面发挥重要作用，”哈佛大学纳米光学实验室首席研究员Marko Loncar博士介绍说。
　　
　　UNCD Horizon已经被用于研究使用聚焦离子束技术制造纳米压印光刻硬掩膜的可行性。将金刚石用作硬掩膜材料可消除压印光刻中的黏附这一关键问题，聚焦离子束技术则可增加灵活性并简化掩膜制造流程。来自新南威尔士大学的Warren McKenzie博士展示了一个带有ADT公司logo的金刚石硬掩膜（如下图所示），这一结果被刊登在2009年7月出版的Microscopy and Microanalysis上。
　　
　　ADT公司的UNCD材料满足粒子计数、盘片挠度及洁净度要求，可以利用反应离子刻蚀进行图形化，并可集成为异质结构的复杂薄膜。它使金刚石被用于制作集成薄膜或者牺牲层。长期以来，金刚石作为工程材料一直被高度关注。现在，UNCD Horizon令金刚石被集成应用在微机电系统以及半导体制造方面。