1．真空蒸镀；
2．真空溅射镀：包括普通溅射，磁控溅射；
3．真空离子镀：包括空心阴极离子镀，活性反应离子镀。
真空下气相分子的平均自由程增大，蒸发粒子与气体分子的碰撞次数减少，能量损失减小，有助于提高镀层与基体的强合力和成膜质量。
真空中，除活性反应离子镀外，均无化合物生成。若使镀层与金刚石发生反应，在可能的前提下，仍须在特定条件下进行化学反应。真空镀法的缺点是设备较复杂，因而投资大。
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