名称 | 纳米引晶法选择性生长金刚石膜的工艺 | ||
公开号 | 1235206 | 公开日 | 1999.11.17 |
主分类号 | C23C16/26 | 分类号 | C23C16/26 |
申请号 | 99104646.3 | ||
分案原申请号 | 申请日 | 1999.05.08 | |
颁证日 | 优先权 | ||
申请人 | 吉林大学 | 地址 | 130012吉林省长春市朝阳区前卫路10号 |
发明人 | 刘洪武; 高春晓; 李迅; 王成新; 邹广田 | 国际申请 | |
国际公布 | 进入国家日期 | ||
专利代理机构 | 吉林大学专利事务所 | 代理人 | 王恩远; 崔丽娟 |
摘要 | 本发明属纳米引晶法选择性生长金刚石膜的工艺。包括清洗衬底、蒸镀掩膜、涂胶、光刻、去胶、引晶、去掩膜和生长金刚石膜过程。衬底是硅、Si#-[3] N#-[4]或Mo,其表面蒸镀SiO#-[2]或Mo作掩膜,经光刻形成所需图形。再在纳米金刚石微粉的胶体溶液中引晶。去掩膜后用热灯丝CVD方法在有晶种的区域生长金刚石膜。本发明的工艺,选择比高、金刚石膜生长速度快、图形完整、对衬底无损伤、可在多种衬底上实现大面积均匀的选择性生长,适于在微电子领域广泛应用。 |