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类金刚石薄膜的沉积设备

关键词 类金刚石 , 沉积|2018-02-02 08:50:47|行业专利
摘要 申请号:201720725409.9申请日:2017.06.20申请人:深圳市正和忠信股份有限公司发明人:阮志明;潘旋;曾德强;廖生;钟俊超;谭安平;张晓柳;阮炯城;聂海天摘要:本...

申请号: 201720725409.9

申请日: 2017.06.20

申请人: 深圳市正和忠信股份有限公司

发明人: 阮志明; 潘旋; 曾德强; 廖生; 钟俊超; 谭安平; 张晓柳; 阮炯城; 聂海天

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       摘要: 

       本实用新型公开了一种类金刚石薄膜的沉积设备,其包括脉冲直流偏压电源系统、恒流离化装置和具有真空腔体的沉积壳体,沉积壳体接地且沉积壳体上设置有抽真空口和进出货炉门,恒流离化装置包括设置于沉积壳体外的离化电源和设置于真空腔体内的两个离化电极,两个离化电极分别与离化电源电连接,沉积壳体上设置有用于放置离子源的第一凸腔,真空腔体内设置有加热管组、气管组、靶材组和用于放置工件的环形的工件转架,脉冲直流偏压电源系统的电源正极接地,电源负极与工件转架连接。本实用新型既可以提高沉积速度,又可以在高光镜面上沉积光泽度高、致密细腻、硬度高、耐磨性能好、颜色均匀的装饰性类金刚石薄膜。

       主权利要求:

       一种类金刚石薄膜的沉积设备,其包括脉冲直流偏压电源系统和具有真空腔体的沉积壳体,所述沉积壳体接地且所述沉积壳体上设置有抽真空口和进出货炉门,其特征在于,所述类金刚石薄膜的沉积设备还包括恒流离化装置,所述恒流离化装置包括设置于所述沉积壳体外的离化电源和设置于所述真空腔体内的两个离化电极,两个所述离化电极分别与所述离化电源电连接,所述沉积壳体上设置有用于放置离子源的第一凸腔,所述真空腔体内设置有加热管组、气管组、靶材组和用于放置工件的环形的工件转架,所述脉冲直流偏压电源系统的电源正极接地,所述脉冲直流偏压电源系统的电源负极与所述工件转架连接。 

 

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