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铂世光取得 MPCVD 碟形腔扩大金刚石沉积面积结构及方法专利

关键词 铂世光|2025-01-08 10:30:41|行业专利|来源 金融界
摘要 金融界2025年1月7日消息,国家知识产权局信息显示,铂世光(上海)技术有限公司取得一项名为“MPCVD碟形腔扩大金刚石沉积面积结构及方法”的专利,授权公告号CN118374788...

       金融界 2025 年 1 月 7 日消息,国家知识产权局信息显示,铂世光(上海)技术有限公司取得一项名为“MPCVD 碟形腔扩大金刚石沉积面积结构及方法”的专利,授权公告号 CN 118374788 B,申请日期为 2024 年 4 月。

       天眼查资料显示,铂世光(上海)技术有限公司,成立于2020年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本5000万人民币,实缴资本460.4296万人民币。通过天眼查大数据分析,铂世光(上海)技术有限公司参与招投标项目12次,知识产权方面有商标信息19条,专利信息47条,此外企业还拥有行政许可12个。


 

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