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　　申请号：201620224291.7
　　申请人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
　　发明人：唐强 马智勇

　　摘要：本实用新型提供一种研磨垫调整器，所述研磨垫调整器至少包括：调整盘；所述调整盘表面设有金刚石颗粒及软毛刷；所述软毛刷自所述调整盘中心的位置向外分布，在所述调整盘表面形成软毛刷分布区域；所述金刚石颗粒位于所述软毛刷分布区域的外围。本实用新型通过在软毛刷分布区域外围设置若干个金刚石颗粒分布区域，可以在调整的过程中提高研磨垫边缘与中心平整度的均匀性，进而提高抛光的速率和效果。 　　主权利要求：1.一种研磨垫调整器，其特征在于，所述研磨垫调整器至少包括：调整盘；所述调整盘表面设有金刚石颗粒及软毛刷；所述软毛刷自所述调整盘中心的位置向外分布，在所述调整盘表面形成软毛刷分布区域；所述金刚石颗粒位于所述软毛刷分布区域的外围。
　　2.根据权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于：所述调整盘表面还设有粘附层，所述金刚石颗粒通过所述粘附层粘附于所述调整盘表面。
　　3.根据权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于：所述调整盘为金刚石圆盘。
　　4.根据权利要求3所述的研磨垫调整器，其特征在于：所述调整盘的直径为12cm～13cm。
　　5.根据权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于：所述软毛刷的数量为120个～130个。
　　6.根据权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于：相邻所述软毛刷的间距为2.5mm～3.5mm。
　　7.根据权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于：所述金刚石颗粒在所述软毛刷分布区域的外围形成若干个金刚石颗粒分布区域，所述金刚石颗粒分布区域沿所述调整盘的周向 间隔分布。
　　8.根据权利要求7所述的研磨垫调整器，其特征在于：所述金刚石颗粒分布区域的数量为30个～35个。
　　9.根据权利要求7所述的研磨垫调整器，其特征在于：每个所述金刚石颗粒分布区域内，相邻所述金刚石颗粒的间距为150μm～180μm。
　　10.根据权利要求7所述的研磨垫调整器，其特征在于：相邻所述金刚石颗粒分布区域的间距为2mm～3mm。
　　11.根据权利要求1所述的研磨垫调整器，其特征在于：所述金刚石颗粒在所述金刚石颗粒分布区域内均匀分布，所述软毛刷在所述软毛刷分布区域内均匀分布。