名称 | 直流电弧喷射沉积金刚石装置 | ||
公开号 | 2139581 | 公开日 | 1993.08.04 |
主分类号 | C23C16/26 | 分类号 | C23C16/26;C23C16/50 |
申请号 | 92236738.8 | ||
分案原申请号 | 申请日 | ||
颁证日 | 优先权 | ||
申请人 | 北京理工大学 | 地址 | 100081北京市海淀区白石桥路7号 |
发明人 | 李荣志; 丁洪生; 朱鹤孙; 阎震 | 国际申请 | |
国际公布 | 进入国家日期 | ||
专利代理机构 | 北京理工大学专利事务所 | 代理人 | 付雷杰 |
摘要 | 一种直流电弧喷射沉积金刚石的装置,由真空室、装在真空室上的带由喷枪体支承的阴极、阳极的喷射装置及镀膜基底组成,阴极和阳极之间装有一个以上屏蔽罩,屏蔽罩底部装有屏蔽喷嘴,该屏蔽喷嘴有约束电弧等离子体和稳定电极上的电弧斑点的作用,从而不需要很大原料气体流量,原料气体通过电弧放电区距离长,这种装置沉积金刚石效果好。 |