名称 | 有源大通道金刚石厚膜热沉及制备方法 | ||
公开号 | 1365169 | 公开日 | 2002.08.21 |
主分类号 | H01S5/02 | 分类号 | H01S5/02 |
申请号 | 01120959.3 | ||
分案原申请号 | 申请日 | 2001.06.21 | |
颁证日 | 优先权 | ||
申请人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 地址 | 130022吉林省长春市人民大街140号 |
发明人 | 廖新胜;刘云;王立军 | 国际申请 | |
国际公布 | 进入国家日期 | ||
专利代理机构 | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人 | 梁爱荣 |
摘要 | 本发明属于半导体光电子技术领域,提供一种有源大通道金刚石厚膜热沉及制备方法,把金刚石厚膜切割成热沉所需形状并将其表面抛光、清洗干净并在镀制钛、镍、金薄膜并金属化、镀铟;热沉包括:螺钉孔,铜板,绝缘垫,激光器阵列条,铜片,透孔,铜片。本发明将金刚石厚膜表面完全浸在由进水孔、浅槽、出水孔、水流向线组成的有源大通道的冷却液中以获得额外低热阻的热沉,提高了激光器和功率器件性能的稳定性和可靠性。广泛用于半导体激光器、集成电路、集成光路、微波管等需要散热功率器件 |