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　　CVD（Chemical Vapor Deposition化学气相沈淀）钻石
　　化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体，在一加热的固体基材上发生化学反应，并镀上一层固态薄膜。所谓CVD（Chemical Vapor Deposition化学气相沈淀）钻石是以一块天然钻裸石为母石，利用高纯度甲烷、加上氢、氮等气体辅助，在微波炉中以高压方式，让甲烷中与钻石一样的 碳分子不断累积到钻石原石上，经过一层层增生，可形成大至10克拉之透明钻石。为使CVD的钻石生长顺利，碳源常用已具钻石结构的甲烷。甲烷可视为以氢压 出的单原子钻石。这种「长大」的钻石，品质与天然钻石几无二致，肉眼难辨。
　　
　　CVD生长钻石膜的瓶颈乃在避免碳氢化物形成石墨，因此氢原子应比碳源多很多。碳源浓度决定了钻石膜的生长速率，但碳源太高时氢原子会来不及 维护钻石结构而使分解出的碳变成石墨。因此碳源太浓反而会降低转化成钻石的比率。碳源的浓度和温度决定了钻石随方向生长速率的差异，因此也决定了钻石的晶 形。氢原子的浓度不仅决定了钻石膜是否能成长，也决定了钻石膜的质量。氢原子产生的比率不太受气体，但和温度有直接关联。随着热源温度的降低及距离的增 大，氢原子的浓度也会急遽下降。
　　
　　CVD（Chemical Vapor Deposition化学气相沈淀）钻石的影响
　　
　　1. 颠覆对钻石价值观
　　过去号称要百万年才能结晶的昂贵钻石，可以在实验室中不到一周就制造完成，颠覆了一般人对钻石的价值观感。
　　2. 提升钻石在各领域应用
　　以往钻石因价格高昂，多半用作珠宝饰品。一旦可便宜制出高质量的钻石，其应用价值，会迅速普及到各个领域。
　　专家预言廿一世纪最重要的发明将是会长大的钻石。有朝一日，价廉物美的钻石会取代硅在半导体的角色，使人类科技进入另一世界。
　　钻石大量生产后，可更平价，且发展有更多元的功能。钻石硬度高，具优异导热及切割、研磨特性，可在医疗上及电子组件上有很好之应用。