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锗硅红外光学镜头镀类金刚石碳膜

关键词 锗硅 , 红外光学 , 金刚石碳膜 |2010-12-09 00:00:00|行业专利|来源 中国超硬材料网
摘要 名称锗硅红外光学镜头镀类金刚石碳膜公开号1033653公开日1989.07.05主分类号C23C14/06

 

名称 锗硅红外光学镜头镀类金刚石碳膜 
公开号 1033653  公开日 1989.07.05 
主分类号 C23C14/06  分类号 C23C14/06;C23C14/40;G02B1/10 
申请号 87105946.0 
分案原申请号   申请日 1987.12.22   
颁证日   优先权  
申请人 昆明物理研究所    地址 云南省昆明市北郊教场东路32号  
发明人 李忠奇; 刘成赞; 李正芬; 左名光; 金惠忠  国际申请  
国际公布   进入国家日期  
专利代理机构 云南省专利事务所  代理人 李灿 
摘要   本工艺发明属于在锗硅光学镜头(片)上镀红外超硬膜技术。是在溅射机中,充入丁烷和氩气的混合气体,选择适当的射频电压产生辉光放电,使混合气体电离,在电场作用下,使正离子撞击到负电极上沉积薄膜的方法,从而使锗 硅镜头(片)上获得类金刚石超硬膜。$本发明所镀制出的膜属类金刚石碳膜,它具有机械强度高,耐磨性能好,红外光学特性优良,且适于镀制大面积光学透镜等优点。适用于一切红外光学镜头(片)及光学仪器窗口材料的镀制。
 

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