名称 | 一种选域金刚石膜的制备方法 | ||
公开号 | 1364945 | 公开日 | 2002.08.21 |
主分类号 | C23C16/04 | 分类号 | C23C16/04;C23C16/27 |
申请号 | 01124619.7 | ||
分案原申请号 | 申请日 | 2001.07.25 | |
颁证日 | 优先权 | ||
申请人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 地址 | 130022吉林省长春市人民大街140号 |
发明人 | 赵海峰;宋航;李志明;金亿鑫;邴秀华 | 国际申请 | |
国际公布 | 进入国家日期 | ||
专利代理机构 | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人 | 梁爱荣 |
摘要 | 本发明涉及制备金刚石薄膜的方法,在选域衬底的导电图形上生成籽晶衬底实现金刚石膜精确定域沉积;对籽晶衬底继续生长制备不同特性的金刚石膜。金刚石膜与衬底附着牢固;例如:制备金刚石场发射冷阴极,将电子发射区域有效地控制在所选择区域,集中密集发射。特别是在微尖(台)顶部预沉积籽晶并生长金刚石的冷阴极,可较好的利用场增强效应,避免发射点过于分散,有利于提高微尖处的电流 |