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      1月17日，工业和信息化部发布关于组织开展2025年未来产业创新任务揭榜挂帅工作的通知。通知显示，将面向量子科技、原子级制造、清洁氢3个未来产业，布局一批核心基础、重点产品、公共支撑、示范应用创新任务，发掘培育一批掌握关键核心技术、具备较强创新能力的优势单位，突破一批标志性技术产品，加速新技术、新产品落地应用。

      其中在原子级制造揭榜挂帅任务榜单中涉及原子级超光滑金刚石表面制造、超硬金刚石团簇离子束原子级抛光装备、大径厚比金刚石光学窗口等内容。

原子级制造揭榜挂帅任务榜单（金刚石相关部分）

      二、重点产品

      （一）多场辅助化学机械原子级抛光装备

      揭榜任务：面向半导体衬底原子尺度抛得光、纳米尺度抛得平、微米尺度抛得快的高质高效加工需求，研究电、光、声、等离子体等多场辅助化学机械原子级去除工艺，突破多场辅助协同调控、超低压力分区加压、测量反馈智能控制等关键技术，开发多场辅助化学机械抛光装备，实现原子级精度抛光，满足半导体衬底应用需求。

      预期目标：到2026年，研制模块化的多场辅助化学机械原子级抛光装备，可以集成电、光、声、等离子体等多场，抛光压力调控精度0.1psi，抛光压力分区数量6个，利用该设备对单晶硅衬底进行抛光，表面起伏小于10个原子层，满足先进制程需求。

      （二）高效团簇离子束原子级抛光装备的研发及在大径厚比金刚石光学窗口的加工应用

      揭榜任务：面向高功率激光系统、中长波红外探测器等对原子级表面精度的金刚石窗口需求，突破气体原子团簇束流中和关键技术，建立原子级超光滑金刚石表面制造方法，研制超硬金刚石团簇离子束原子级抛光装备，实现大径厚比金刚石光学窗口的原子级制造，并应用验证。

      预期目标：到2026年，高性能、低成本的束流中和器自主可控，具有较高的中和效率，对Ar100团簇中和效率>50%，研制金刚石材料团簇离子束原子级抛光装备，建立金刚石光学窗口纳米级精度及原子级表面质量制造工艺，加工金刚石光学窗口直径≥75mm、径厚比≥100、表面面形精度PV≤λ/4、表面粗糙度Ra≤1nm，设备支持Ar/SF6等多种气体团簇离子束、束流强度≥100μA、团簇束斑直径0.5-10mm可调、团簇离子能量≥60keV，能够支撑3英寸级金刚石光学窗口原子级可控制造。