形成金刚石膜的方法 _专利

形成金刚石膜的方法

关键词形成 , 金刚石膜|2010-12-10 00:00:00|行业专利|来源中国超硬材料网

摘要名称形成金刚石膜的方法公开号1121963公开日1996.05.08主分类号C23C14/40

名称	形成金刚石膜的方法
公开号	1121963	公开日	1996.05.08
主分类号	C23C14/40	分类号	C23C14/40;C01B31/06
申请号	95108952.8
分案原申请号		申请日	1995.07.18
颁证日		优先权	[32]1994.7.18[33]JP[31]165182/94
申请人	佳能株式会社	地址	日本东京
发明人	平林敬二; 吉川俊明	国际申请
国际公布		进入国家日期
专利代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	徐汝巽
摘要	一种通过高频等离子体ＣＶＤ方法形成金刚石膜的方法，使用了电感耦合放电，并将高频波的频率设定在４０—２５０ＭＨｚ之间，由此将含碳的原料气体分解为等离子体状态，以在基体上形成金刚石膜。

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