摘要 申请号:201610247725.X申请人:武汉理工大学发明人:赵秀栩阳群徐风永郑文涵摘要:本发明是一种非标型液压缸缸筒内表面清洁和抛光一体化装置和方法。该方法是通过含有金刚石超细...
申请号:201610247725.X申请人:武汉理工大学
发明人:赵秀栩 阳群 徐风永 郑文涵
摘要:本发明是一种非标型液压缸缸筒内表面清洁和抛光一体化装置和方法。该方法是通过含有金刚石超细研磨颗粒研磨膏的挤压和吸附作用同时实现对缸筒的清洁和抛光,所述金刚石超细研磨颗粒的粒度为0.5微米。该装置主要由依次连接的气缸(1)、T形推杆(4)、原料桶(5)、进料管(6)、回转接头(7)、刀杆(8)、基座(10)、研磨膏座(13)、压盖(17)组成。本发明可实现缸筒内表面的清洁和抛光,清洁抛光后的缸筒可以提高其生产效率;所提供的装置具有结构简单,操作方便,适用范围比较广泛等优点。 主权利要求:1.一种非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化方法,其特征在于:通过含有金刚石超细研磨颗粒研磨膏的挤压和吸附作用同时实现对缸筒的清洁和抛光,所述金刚石超细研磨颗粒的粒径0.5微米。
2.一种非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于:主要由依次连 接的气缸(1)、T形推杆(4)、原料桶(5)、进料管(6)、回转接头(7)、刀杆(8)、基 座(10)、研磨膏座(13)、压盖(17)组成。
3.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于 所述气缸(1)的活塞杆通过连接法兰与T形推杆(4)的上端相连;T形推杆(4)的下 端通过原料桶上端盖进入原料桶(5)内腔中,由气缸(1)提供的动力推动T形推杆(4) 挤压原料桶(5)里的研磨膏,使研磨膏在压力的作用下挤压并通过待清洁和抛光的液压 缸缸筒内表面。
4.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于 所述的进料管(6),其上端与原料桶(5)的下端内孔螺纹连接,其下端与回转接头(7) 的侧端内孔螺纹连接。
5.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于 所述的回转接头(7),其后端与刀杆(8)的扁圆头的左端内螺纹连接。
6.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于 所述的刀杆(8),由自左向右依次连接的扁圆头、圆锥体、圆柱体组成,其中:圆锥体的 圆锥面与主轴通过莫氏锥度连接,所述主轴是铣镗床主轴;扁圆头与主轴槽连接,用于传 递主轴的扭矩;刀杆(8)的中心开有刀杆轴向研磨膏通道,该研磨膏通道贯穿扁圆头、 圆锥体直至通到圆柱体中,与圆柱体的圆柱面上开有4条均布的刀杆径向研磨膏通道交 汇。
7.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于 所述的刀杆(8)与基座(10)通过键槽连接并实现周向定位,基座与研磨膏座通过键槽 连接并实现周向定位,具体是:通过刀杆第一平键的周向定位使得刀杆径向研磨膏通道与 基座(10)上的基座径向研磨膏通道相通,刀杆第一平键安装在刀杆外圆键槽中,通过刀 杆第一平键带动基座(10)转动。
8.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于 所述的基座(10),通过刀杆(8)圆锥体的轴肩轴向定位;在基座(10)的周向均布4条 基座径向研磨膏通道,刀杆第二平键安装在基座外圆键槽中,通过刀杆第二平键带动研磨 膏座(13)转动,研磨膏座的左端面与基座(10)的台阶右端面接触,从而对研磨膏座(13) 实现轴向定位;在基座(10)上设有基座孔内键槽,使得安装在刀杆外圆键槽中的刀杆第 一平键带动基座转动。
9.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在于 所述的研磨膏座(13),设有两个用于安装密封件的密封槽,以及研磨膏座环形槽、4条 研磨膏座径向通道和4条均布的基座径向研磨膏通道相通,其中:研磨膏座第一密封件槽 用于安装研磨膏座第一密封件,研磨膏座第二密封件槽用于安装研磨膏座第二密封件;研 磨膏座环形槽用于容纳从研磨膏座径向研磨膏通道输送过来的研磨膏,4条研磨膏座径向 研磨膏通道沿研磨膏座周向均布,并与基座(10)中4条均布的基座径向研磨膏通道连通; 在研磨膏座(13)的左端开有研磨膏座孔内键槽,使得安装在基座外圆键槽中的刀杆第二 平键带动研磨膏座转动;在研磨膏座第二密封件槽的下方设有研磨膏座排气通道,用于开 始工作前排尽整个研磨膏通道中的空气,以便研磨膏顺利的充满研磨膏座与缸筒之间研磨 膏环形槽。
10.根据权利要求2所述的非标型液压缸筒内表面清洁和抛光一体化装置,其特征在 于所述的压盖(17),其左端端面顶住基座(10)的右端面,其台阶端面顶住研磨膏座(13) 的右端面,并通过止动垫圈(18)和圆螺母(19)锁死;圆螺母(19)通过刀杆(8)的 右端螺纹实现对基座(10)和研磨膏座(13)的轴向定位。